光學電子行業超純水設備解決方案

隨著純水設備在光電行業的廣泛應用，深圳海德龍制作了關于光電行業純水設備解決方案，光電行業一般采用純水設備類別中的超純水設備作為純水制備的首選設備，光電制品行業（如：LCDLED，觸摸屏等，光學制品：如光學鏡頭、光學鏡片等系列產品）

1.光電行業用水水質要求：

這類光電光學產品對水質要求十分高，出水水質一般要求在15兆歐以上。

主要用于超聲波清洗時的純水水洗槽，進水方式主要采用水逆流方式。

2. 用水量：

小型生產線如：一條長10米左右的清洗線一般一天用水10T左右。

大型生產線：一條50米的清洗線一般一天用水50T左右

3.設備要求：

根據用水水質要求，光電光學超純水設備主要選用以下兩種制水流程：

1）采用反滲透+混床+核能級混床工藝

2）采用反滲透+EDI+核能級混床工藝

以上兩種超純水設備均能達到出水水質在15兆歐以上。

4.設備一般流程：

光電光學超純水設備一般采用下述流程（HDL-RO/RM系列）：

原水箱—原水泵—砂濾器—碳濾器—軟水器（如果當地水質比較好可以省去）—精密過濾--反滲透—純水箱—混床增壓泵—混合離子交換器—核能級混床--用水點

或采用另一種設備配置（HDL-RO/EDI系列）：

原水箱—原水泵—砂濾器—碳濾器—軟水器—精密過濾--雙級反滲透—純水箱—EDI增壓泵—EDI系統—超純水箱—核能級混床—用水點

5.設備模塊作用：

光電光學超純水設備主要由預處理、主機部分提純部分構成，各部件用用如下：

預處理：原水箱、原水泵、砂濾器、碳濾器、軟水器構成了超純水設備的預處理部分，預處理主要去除水中的泥砂、有機物、懸浮物、余氯并降低水的硬度。確保進水符合反滲透系統的要求。

預處理中砂濾器中對砂的要求較高。需要嚴格按照砂的大小進行裝配，特別注意的是最表層的砂需在裝配0.5左右的細砂，調試在10公分左右。

主要機部分主要由精密過濾器與反滲透組成，此部分的主要作用是將自來水處理成小于10us以下的純水。反滲透需要選用好的膜元件，最好的反滲透元件可選用美國陶氏膜元件，可以確保反滲透的使用。初期出水水質可以達到5us以下。

提純部分選用混床系統或EDI系統，將反滲透出水水質在5us以下的水質提純到15兆歐以上，再通過核能級混床水質可長期穩定。