EDI超純水設備清洗與消毒操作規程

EDI超純水設備在運行中會出現污堵等現象，需要對EDI進行正確的清洗以及消毒，以保障超純水設備的正常運行。水處理之家網詳細講述EDI超純水設備的清洗與消毒方法及其注意事項。

1.EDI超純水設備清洗原因

隨著工作時間的累積，需要對EDI模塊進行清洗及消毒，這是因為：
– 硬度或金屬結垢，主要產生在濃水室內
– 在離子交換樹脂或膜形成無機物污垢（例如，硅）
– 在離子交換樹脂或膜形成有機物污垢
– EDI模塊和系統管道及其它部件的生物污垢
– 以上所有情況一起出現

2.EDI超純水設備清洗程序及模式

清洗程序

清洗程序 1: 濃水管線清洗及消毒

清洗程序 2: 淡水管線清洗及消毒

清洗程序 3: 極水管線清洗及消毒

清洗及消毒模式
首選清洗模式：直通，逆流（低及 高 pH值都可）；再循環（氧化劑）
可選清洗模式: 再循環或直通順流(低及高 pH值都可)
注意: 由于硬度結垢幾乎完全發生在濃水室和極水室，淡水室的低PH清洗并不常用。在極端嚴重結垢或十分混亂的條件下，需要保留淡水室的低PH清洗。

3.超純水設備EDI清洗消毒最佳方法

在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。以下的圖表簡要的概括了污垢情況以及最佳的清洗/ 消毒程序。例行的消毒最好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒，只適用于嚴重的生物污堵的消毒 消毒時先進行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。

問題 所需清洗 / 消毒 程序

1.硬度或其他金屬 結垢
低 pH 值 濃水 : 程序 1 極水 : 程序 3
有機污堵 高 pH 淡水 : 程序 2

2.有機污堵及硬度或其 他金屬結垢
1. 低 pH 值
濃水:低 pH 程序 1;
淡水:低 pH 程序 2;
極水:低 pH 程序 3;

2. 高 pH 值
濃水: 高 pH 值，程序 1
淡水: 高 pH 值，程序 2
極水: 高 pH 值，程序 3

3.生物污堵
高pH值
濃水:程序1
淡水:程序2
極水:程序 3

4.生物污堵及硬度或其他金屬結垢
1.低 pH 值
濃水:低pH值程序1;
淡水:低pH值程序2;
極水:低pH值程序3;
2.高pH值
濃水:高pH值程序1
淡水:高pH值程序2
極水:高pH值程序3

5.嚴重生污物堵及硬度 或其他金屬結垢
1.低 pH 值
濃水:低 pH 程序 1;
淡水:低 pH 程序 2;
極水:低 pH 程序 3;
2.低濃度氧化劑消毒
3.高 pH 值
濃水: ;高 pH 值，程序 1
淡水: ;高 pH 值，程序 2
極水: ;高 pH 值，程序 3

EDI超純水設備清洗及說明

對于清洗系統和消毒系統而言有四種類型：低pH值型;高pH值型;低濃度氧化消毒清洗型；及高溫消毒型 。關于低 pH值型，高 pH值型，低濃水氧化消毒清洗型，及高溫消毒型的描述在下面的內容中作詳細闡述。當需要選擇高溫消毒時，則要啟動高溫消毒程序。
單獨的清洗及消毒程序只針對淡水，濃水及極水管線而言。清洗及消毒的循環過程可獨立完成。獨立的循環程序也可同時進行以減少總的清洗時間。由于極水循環的低清洗流速，大多數情況下清洗過程必須同時與濃水循環清洗和淡水循環清洗同時進行。清洗水箱及水泵是必備的（CIP系統）。總共需要五條清洗流水線：兩個進口（淡水進口和濃水進口） 以及三個出口（淡水出口，極水出口和濃水排放）。

4.超純水設備中CIP及EDI系統清洗過程設置

參看以下獨立循環清洗程序以了解最適合您的清洗模式。
排空清洗系統。
若是使用直通清洗方法，則不能在開始清洗之前或在清洗步驟之間排空 EDI系統（如果已工作超過一個步驟）。若是使用再循環清洗方法，則在開始清洗之前或在清洗過程中排空EDI系統（如果已工作超過一個步驟）。
通過關閉 EDI系統淡水進口，淡水出口，淡水沖洗出口，濃水排放，及極水出口閥將 EDI系統與上游及下游隔離開。
通過關閉濃水進口隔離閥來將濃水管線與淡水和極水管線隔離開。